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成都兴林真空设备:高精度光刻机设备厂商

 

  【慧聪网讯】光刻机(紫外曝光机)(MaskAligner)又被称为:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫MaskAlignmentSystem.

  一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。

  Photolithography(光刻)意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

  主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、声表面波器件的研制和生产。由于本机找平机构先进,找平力小、使本机不仅适合硅片、玻璃片、陶瓷片、宝石片的曝光,而且也适合易碎片如砷化钾、磷化铟等基片的曝光以及非圆形基片和小型基片的曝光。

  A手动:指的是对准的调节方式,是通过手调旋钮改变它的X轴,Y轴和thita角度来完成对准,对准精度可想而知不高了;

  C自动:指的是从基板的上载下载,曝光时长和循环都是通过程序控制,自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要,恩科优的NXQ8000系列可以一个小时处理几百片wafer。

  2、具有相对应的版夹盘,□5″×5″、□4″×4″、□2.5″×2.5″。

  4、采用鹰眼曝光头,光的不均匀性≤±3%,曝光时间0~9999.9秒可调。

  2、具有相对应的版夹盘,,□7″×7″、□6″×6″/□5″×5″、□4″×4″、□2.5″×2.5″。澳门皇冠

  4、采用鹰眼曝光头,光的不均匀性≤±3%,曝光时间0~9999.9秒可调。

  a.有适当的波长。波长越短,可曝光的特征尺寸就越小;[波长越短,就表示光刻的刀锋越锋利,刻蚀对于精度控制要求越高,因为衍射现象会更严重。]

  c.曝光能量必须均匀地分布在曝光区。[一般采用光的均匀度或者叫不均匀度光的平行度等概念来衡量光是否均匀分布]

  常用的紫外光光源是高压弧光灯(高压汞灯),高压汞灯有许多尖锐的光谱线,经过滤光后使用其中的g线nm)或i线nm)。

  对于波长更短的深紫外光光源,可以使用准分子激光。例如KrF准分子激光(248nm)、ArF准分子激光(193nm)和F2准分子激光(157nm)等。

  曝光系统的功能主要有:平滑衍射效应、实现均匀照明、滤光和冷光处理、实现强光照明和光强调节等。

  成都兴林真空设备有限公司主要供应高精度双面光刻机、高精度单面光刻机。中国科学院半导体研究所、清华大学、南开大学等是主要客户。192次工艺检测500台+光刻机客户案例。公司地址:成都市成华区龙潭寺龙井路6号